张映桃
,
王罡
,
聂振国
,
石万凯
,
融亦鸣
材料热处理学报
经过真空保护高温退火,1J50软磁合金可以获得好的直流磁性能.退火工艺参数对软磁性能有特定的影响.在这篇文章中,根据国标设计了1J50试样,并对试样进行了一系列真空保护条件下的高温退火实验.研究了退火温度和保温时间对试样直流磁性能和微观组织影响.结果表明:退火工艺参数与材料的微观组织和磁性能之间存在非线性的关系.建立了磁性能、晶粒尺寸和退火工艺参数之间的数学模型来描述他们之间的定量关系.
关键词:
真空退火
,
1J50软磁合金
,
直流磁性能
,
晶粒尺寸
时惠英
,
张彬
,
蒋百灵
,
张永宏
,
陈梓山
材料热处理学报
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了掺Cr类石墨镀层,研究了真空退火温度对镀层的硬度、结合强度、摩擦系数和比磨损率的影响规律,通过X射线衍射(XRD)分析了镀层结构随退火温度的变化.结果表明:随退火温度的升高,镀层有新相生成,镀层的膜基结合强度降低,镀层硬度随温度的升高先增加后降低,退火温度为500℃时,镀层显微硬度最大;随退火温度的升高镀层摩擦系数呈现出先降低后升高的变化趋势,比磨损率逐渐增大.
关键词:
类石墨镀层
,
真空退火
,
微观组织
,
摩擦学性能
耿东森
,
吴正涛
,
聂志伟
,
黎海旭
,
张小波
,
代伟
,
王启民
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.06.009
为研究基体偏压对AlCrSiON纳米复合涂层结构、力学性能和热稳定性的影响规律及机制,采用电弧离子镀技术在硬质合金基体上沉积AlCrSiON涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、纳米压痕仪(划痕仪)研究涂层组织结构和力学性能;通过真空退火试验研究涂层的高温稳定性.结果表明:AlCrSiON涂层为致密柱状晶结构,并主要由c-(Al,Cr)N和c-(Al,Cr)(O,N)两相组成,呈现出纳米复合结构.随着偏压的升高,涂层表面的颗粒数目和尺寸减少,组织结构更加致密;硬度和弹性模量均呈现出先增加后减小的趋势,当偏压为-80 V时分别达到最大值30.1 GPa和367.9 GPa.涂层具有良好的高温稳定性,不同偏压下沉积的AlCrSiON涂层经800-950℃热处理后均能够保持良好的结构稳定性及力学性能,但经1 100℃热处理后涂层发生相分解并引发组织结构变化,导致涂层硬度减小.
关键词:
基体偏压
,
AlCrSiON
,
真空退火
,
组织结构
,
热稳定性
张建柱
,
赵捷
,
陆翠敏
,
吴玉强
,
马永昌
,
刘庆锁
机械工程材料
采用固相烧结法在空气中经1360℃制备了单相La1．5Sr0．5NiO4-δ陶瓷，将其在2×10^-3Pa的真空度下于800℃退火3h；用阻抗分析仪对真空退火前后其变温交流阻抗谱进行了分析。结果表明：真空退火前的陶瓷在10^2-10^5Hz和100-320K时存在高达10^5的巨介电常数，且与电荷有序有关；退火后介电常数减小到10^4，弥散区域向低频发生大幅移动，其极化以晶界极化为主。
关键词:
巨介电常数
,
陶瓷
,
真空退火
